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F20膜厚測(cè)量系統(tǒng)工作原理分析

發(fā)布時(shí)間：2023-11-24　點(diǎn)擊量：487

F20膜厚測(cè)量系統(tǒng)工作原理分析

這是一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、低成本、多功能桌面涂層厚度測(cè)量系統(tǒng)，已安裝在全球 5,000 多個(gè)裝置中。它可用于廣泛的應(yīng)用，從研究和開(kāi)發(fā)到制造現(xiàn)場(chǎng)的在線測(cè)量。
F20基于光學(xué)干涉法，可以在約1秒內(nèi)輕松測(cè)量透明或半透明薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點(diǎn)在線測(cè)量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信，因此也可以從PLC或主機(jī)進(jìn)行控制。

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當(dāng)入射光穿透不同物質(zhì)的界面時(shí)將會(huì)有部份的光被反射，由于光的波動(dòng)性導(dǎo)致從多個(gè)界面的反射光彼此干涉，從而使反射光的多波長(zhǎng)光譜產(chǎn)生振蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率，愈多的震蕩代表較大的厚度。而其他的材料特性如折射率與粗糙度也也能同時(shí)測(cè)量。

主要特點(diǎn)

  • 兼容多種薄膜厚度（1nm 至 250μm）

  • 兼容寬波長(zhǎng)范圍（190nm至1700nm）

  • 強(qiáng)大的膜厚分析

  • 光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）

  • 緊湊型外殼

  • 支持在線測(cè)量

主要用途

平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學(xué)膜等
半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學(xué)鍍膜防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽(yáng)能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等
醫(yī)療保健鈍化、藥物涂層等















基本應(yīng)用:

基本上所有光滑的、半透明或低吸收系數(shù)薄膜都可以測(cè)量。這包括幾乎所有的電介質(zhì)與半導(dǎo)體材料，例如：

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