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離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用

發(fā)布時(shí)間：2022-01-04　點(diǎn)擊量：834

離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用

適用于光學(xué)薄膜和透明涂層薄膜

模型飛行時(shí)間
測量方法非接觸式/光譜干涉測量法
測量對象電子和光學(xué)用透明平滑膜、多層膜
測量原理光譜干涉儀
產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 實(shí)現(xiàn)高測量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）

  • 不易受溫度變化的影響

  • 可以生產(chǎn)用于研究和檢查的離線式和在制造過程中使用的在線式。

  • 反射型允許從薄膜的一側(cè)進(jìn)行測量

  • 僅可測量透明涂膜層（取決于測量條件）

產(chǎn)品規(guī)格
測量厚度1～50μm（薄材料）、10～150μm（厚材料）　　　　
測量長度50-5000 毫米
測量間距1 毫米 ~
最小顯示值0.001微米
電源電壓AC100 V 50/60 Hz
工作溫度限制5～45℃（測量時(shí)溫度變化1℃以內(nèi)）
濕度35-80%（無冷凝）
測量區(qū)域φ0.6 毫米
測量間隙約 30 毫米