日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置

產(chǎn)品型號： ASM86準分子

所屬分類：分子輻射裝置

產(chǎn)品時間：2024-09-11

簡要描述：日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置
它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備，只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。

詳細說明：

日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置

它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備，只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。

研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置
模型	ASM86準分子
發(fā)射波長	172nm
待處理對象	W86mm x D120mm 以下，厚度 40mm 以下
照射距離調(diào)整	帶有用于調(diào)節(jié)的實驗室千斤頂（可變照射距離從 0 到 40 mm）
外形尺寸	機身：(W) 432 mm x (D) 510 mm x (H) 520.5 mm（不包括突出部分）
大約重量	約 25 kg（主體 20 kg，照射單元 4.8 kg）
機身材質(zhì)	SUS304 / A5052P / SPCC
輻照單元
燈具制造商	濱松光電株式會社制造
模型	平面準分子 EX-86U L13129
輻照強度	65mW/cm2
照射面尺寸	推薦 86mm x 40mm 準分子有效照射距離 5mm 以內(nèi)
冷卻方式	強制風冷
運輸科
表材	A5052P（帶對齊狹縫）
遮光罩	PVC(UV ｃｕｔ黃色)
處理速度	0.1mm/秒-120mm/秒
加工活動范圍	240mm
其他
觸控面板	4英寸單色觸摸屏
食譜數(shù)量	20個配方（加工速度和照射時間可設(shè)置）
監(jiān)控功能	具有當前速度/當前位置/剩余時間顯示功能
臭氧排氣設(shè)備	內(nèi)置臭氧催化劑（強制風扇排氣）
公用事業(yè)	AC100V 50 / 60Hz 400VA